论文《提高AlGaN/GaN HEMT关态击穿电压的纳米沟道阵列结构》介绍了通过设计纳米沟道阵列结构来提升器件关态击穿电压的方法。该结构有效改善了电场分布，降低了边缘电场强度，从而提高了器件的可靠性与性能。研究结果表明，该方法在不牺牲器件开关特性的情况下，显著增强了击穿电压，对高性能功率器件的发展具有重要意义。
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