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射频磁控溅射制备MgzZn1-zO薄膜 - 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议.pdf

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2026-1-12 13:13 | 查看全部阅读模式

会议论文《射频磁控溅射制备MgzZn1-zO薄膜》介绍了采用射频磁控溅射技术制备MgZnO薄膜的实验过程与结果。研究探讨了不同掺杂比例对薄膜结构和性能的影响，为新型半导体材料的开发提供了理论依据和技术支持。

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射频磁控溅射制备MgzZn1-zO薄膜 - 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议.pdf

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