射频溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜 - 第十六届华东六省一市热处理学术年会.pdf

会议论文《射频溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜》介绍了通过射频溅射技术制备Ni-Mn-Ga薄膜的实验方法与结果。该研究探讨了工艺参数对薄膜结构和性能的影响，为磁性形状记忆材料在微电子与传感器领域的应用提供了理论支持和技术参考。

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射频溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜 - 第十六届华东六省一市热处理学术年会.pdf

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