基于BCD工艺的高压PMOS器件设计 - 四川省电子学会半导体与集成技术专委会2008年度学术年会.pdf

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会议论文《基于BCD工艺的高压PMOS器件设计》介绍了在BCD工艺下高压PMOS器件的设计方法。文章分析了器件结构、电场分布及可靠性问题,提出了优化方案以提高器件性能和稳定性。该研究对高压集成电路设计具有重要参考价值,为相关领域的技术发展提供了理论支持。

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基于BCD工艺的高压PMOS器件设计 - 四川省电子学会半导体与集成技术专委会2008年度学术年会
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