会议论文《GaN基多层膜结构椭偏光谱研究》探讨了基于氮化镓的多层膜结构的光学特性，通过椭偏光谱技术进行分析。该研究为GaN材料在光电器件中的应用提供了重要的理论依据和技术支持，有助于提升器件性能和可靠性。文章对多层膜的折射率、厚度等参数进行了精确测量，为后续器件设计和优化提供了数据支撑。
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