会议论文《铁沾污对晶界复合活性的影响及H钝化研究》探讨了铁元素在硅晶体中的沾污如何影响晶界的复合活性，并研究了氢（H）对这种影响的钝化作用。该研究对于提高半导体材料的性能和可靠性具有重要意义，为优化硅材料的制备工艺提供了理论依据。
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