论文《磁控溅射生长Cu薄膜的AFM三维表面形貌研究》探讨了通过磁控溅射法制备铜薄膜的表面形貌特性。利用原子力显微镜（AFM）对薄膜进行三维形貌分析，研究其表面粗糙度、颗粒分布及结构特征。该研究为优化Cu薄膜制备工艺提供了重要参考，对提升薄膜性能具有实际意义。
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