高密度低能量离子束辅照磁控溅射镀膜技术研究 - 第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛.pdf

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2026-1-12 19:37 | 查看全部阅读模式

会议论文《高密度低能量离子束辅照磁控溅射镀膜技术研究》探讨了利用高密度低能量离子束辅助磁控溅射技术在镀膜过程中的应用。该研究旨在提高薄膜的致密性和附着力，同时降低基板的热损伤。通过优化离子束参数，实验结果显示薄膜质量显著提升，为先进表面工程提供了新的技术路径。

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