会议论文《铁电薄膜PZT干法刻蚀的研究》探讨了PZT铁电薄膜在干法刻蚀过程中的工艺优化与性能分析。文章针对PZT材料的特性，研究了不同刻蚀参数对薄膜结构和电学性能的影响，提出了改进刻蚀效果的方法。该研究为铁电器件的制造提供了理论支持和技术参考，具有重要的应用价值。
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