刚挠结合板化学沉铜工艺的优化 - 第八届全国印制电路学术年会.pdf

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2026-1-12 10:06 | 查看全部 阅读模式

会议论文《刚挠结合板化学沉铜工艺的优化》探讨了刚挠结合板在化学沉铜过程中存在的技术难题,并提出了一系列优化措施。该文通过实验分析,改进了沉铜工艺参数,提高了沉铜层的均匀性和结合力,有效提升了产品质量和可靠性。该研究对印制电路行业的工艺发展具有重要意义。

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刚挠结合板化学沉铜工艺的优化 - 第八届全国印制电路学术年会
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