会议论文《反应溅射镀膜技术》发表于中国电子学会第十四届青年学术年会，探讨了反应溅射在薄膜制备中的应用与进展。文章介绍了该技术的基本原理、工艺参数及其对薄膜性能的影响，强调了其在微电子和光学领域的广泛应用前景。研究为提高薄膜质量与稳定性提供了理论支持和技术参考，具有重要的学术价值和工程意义。
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