PIIID技术制备Ti_DLC和W_DLC纳米多层薄膜 - 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议.pdf

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2026-1-12 07:55 | 查看全部阅读模式

会议论文《PIIID技术制备Ti_DLC和W_DLC纳米多层薄膜》介绍了利用等离子体增强离子注入沉积（PIIID）技术制备钛基和钨基类金刚石碳纳米多层薄膜的研究。该研究探讨了薄膜的结构、性能及应用前景，为高硬度、低摩擦材料的开发提供了新思路，具有重要的理论和实际意义。

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