会议论文《直流磁控反應濺鍍NiCr-CN薄膜性能研究》發表於第六屆華東三省一市真空學術交流會，主要探討通過直流磁控反應濺射技術製備NiCr-CN薄膜的過程與性能。該研究分析了不同工藝參數對薄膜結構及性能的影響，並評估其在電子與塗層領域的應用潛力。
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