会议论文《0.13μm下的标准I/O库的精粹电路研究》探讨了在0.13微米工艺下优化标准输入输出电路的设计方法。该研究针对高速、低功耗和高可靠性需求,提出了一系列改进方案,提升了I/O模块的性能表现。论文在第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’)上发表,为集成电路设计提供了有价值的参考。
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