0.13μm下的标准I_O库的精粹电路研究 - 第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’).pdf

11 0
2026-1-11 07:32 | 查看全部 阅读模式

会议论文《0.13μm下的标准I/O库的精粹电路研究》探讨了在0.13微米工艺下优化标准输入输出电路的设计方法。该研究针对高速、低功耗和高可靠性需求,提出了一系列改进方案,提升了I/O模块的性能表现。论文在第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’)上发表,为集成电路设计提供了有价值的参考。

文档为pdf格式,0.11MB,总共3页。

0.13μm下的标准I_O库的精粹电路研究 - 第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’)
文件大小:
112.64 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1