会议论文《砷化镓晶片表面微量杂质及分析技术》探讨了砷化镓晶片表面微量杂质的检测与分析方法。文章介绍了多种先进的分析技术，如X射线光电子能谱和二次离子质谱，用于精确识别和量化表面污染物。该研究对提升半导体器件性能和可靠性具有重要意义，为相关领域的科研人员提供了有价值的参考。
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