会议论文《X射线光刻制备减反射结构研究》探讨了利用X射线光刻技术制备减反射结构的可行性与工艺优化。该研究针对半导体器件中光学性能提升的需求，提出了一种新型微纳结构设计方法，并通过实验验证了其在降低表面反射率方面的有效性。研究成果为高性能半导体器件的开发提供了技术支持，具有重要的应用价值。
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