诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响 - TFC‘2011全国薄膜学术研讨会.pdf

论文《诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响》探讨了在化学沉积过程中，外加磁场对Co-Ni-P薄膜磁性能的影响。研究结果表明，适当强度的磁场可以改善薄膜的磁各向异性，提高其矫顽力和饱和磁化强度。该研究为优化化学沉积工艺、制备高性能磁性薄膜提供了理论依据和技术参考。

","role":"assistant文档为pdf格式，0.44MB，总共4页。

2025-12-14 09:23 上传 诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响 - TFC‘2011全国薄膜学术研讨会.pdf

文件大小:

450.56 KB

下载次数:

60

诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响 - TFC‘2011全国薄膜学术研讨会.pdf ...

高速下载