激光诱导化学气相沉积(LCVD)制膜技术 - 2011中国功能材料科技与产业高层论坛.pdf

论文《激光诱导化学气相沉积(LCVD)制膜技术》介绍了LCVD技术在制备功能材料中的应用。该技术利用激光作为能量源，引发化学反应，在基底表面形成高质量薄膜。文章探讨了工艺参数对薄膜性能的影响，分析了其在微电子和光学领域的潜在用途，为相关研究提供了理论支持与实践参考。

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2025-12-14 10:48 上传 激光诱导化学气相沉积(LCVD)制膜技术 - 2011中国功能材料科技与产业高层论坛.pdf

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