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论文《应用全自动VPD-ICPMS设备测试8英寸硅抛光片表面金属离子含量》介绍了利用全自动VPD-ICPMS设备对8英寸硅抛光片表面金属离子进行检测的方法。该研究旨在提高检测效率和准确性，为半导体制造提供可靠的数据支持。通过该技术，能够快速、精确地分析硅片表面的金属污染情况，有助于提升产品质量和工艺水平。本文在2011年IT、网络、信息技术、电子、仪器仪表创新学术会议上发表，具有重要的参考价值。 文档为pdf格式，0.42MB，总共4页。
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- 应用全自动VPD-ICPMS设备测试8英寸硅抛光片表面金属离子含量 - 第二十五届中国(天津)2011’IT、网络、信息 ...
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