会议论文《磁控溅射制备NiTiHfCu薄膜工艺参数对表面形貌的影响》探讨了通过磁控溅射技术制备NiTiHfCu形状记忆合金薄膜时，不同工艺参数如溅射功率、基底温度和气体压强对薄膜表面形貌的影响。研究结果有助于优化薄膜制备工艺，提升材料性能，为相关应用提供理论支持。
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