会议论文《溅射温度对TaNx薄膜性能的影响》发表于二〇〇八全国功能材料科技与产业高层论坛，主要研究了不同溅射温度对TaNx薄膜结构和性能的影响。通过实验分析，发现溅射温度显著影响薄膜的致密性、电阻率及热稳定性。该研究为优化TaNx薄膜制备工艺提供了理论依据，对半导体和微电子器件的发展具有重要意义。
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