氧化钨的状态分析 - 帕纳科中国第十届X射线分析仪器用户技术交流会.pdf

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2026-1-12 15:08 | 查看全部 阅读模式

会议论文《氧化钨的状态分析》在帕纳科中国第十届X射线分析仪器用户技术交流会上发表。该文通过X射线衍射技术对氧化钨的不同氧化态进行了详细分析,探讨了其晶体结构与化学状态之间的关系。研究结果为氧化钨材料的性能优化提供了重要参考,适用于催化剂、传感器及储能材料等领域。论文展示了X射线分析在材料科学研究中的关键作用。

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氧化钨的状态分析 - 帕纳科中国第十届X射线分析仪器用户技术交流会
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