会议论文《Mo电极上磁控反应溅射AlN薄膜》介绍了在钼电极上采用磁控反应溅射法制备氮化铝薄膜的研究。文章探讨了工艺参数对薄膜结构和性能的影响,分析了薄膜的晶体结构与表面形貌,为高性能AlN薄膜的制备提供了理论依据和技术支持。
文档为pdf格式,0.45MB,总共4页。
举报