会议论文《电子束蒸发制备Si0.95Co0.05稀磁半导体薄膜》发表于第二届全国核技术及应用研究学术研讨会。该文介绍了通过电子束蒸发技术制备Si0.95Co0.05稀磁半导体薄膜的过程，探讨了其结构与磁性特性，为新型半导体材料的研究提供了实验依据。
文档为pdf格式，0.28MB，总共7页。
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