会议论文《单晶炉炭毡及热屏对单晶硅生长影响的优化模拟》探讨了单晶硅生长过程中炭毡和热屏结构对热场分布的影响。通过数值模拟方法，研究了不同参数下的热传导特性，旨在优化单晶炉内部结构，提高单晶硅生长质量。该研究为改善单晶硅生产效率和晶体纯度提供了理论依据和技术支持。
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