具有复合耐压层的深槽型DMOS设计 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议.pdf

3 0
2026-1-11 13:26 | 查看全部 阅读模式

会议论文《具有复合耐压层的深槽型DMOS设计》发表于第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议。该文针对深槽型DMOS器件的耐压性能进行研究,提出一种复合耐压层结构,有效提升了器件的击穿电压和可靠性。通过优化结构设计,实现了更高的功率密度与更优的电特性,为高性能功率器件的发展提供了新思路。

文档为pdf格式,0.19MB,总共3页。

具有复合耐压层的深槽型DMOS设计 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议
文件大小:
194.56 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1