该会议论文探讨了Nikon步进光刻机在光刻工艺中的参数优化问题，旨在提高光刻精度和良品率。文章分析了关键工艺参数对光刻效果的影响，并提出了优化方法。研究对于提升半导体制造水平具有重要意义，是2009年四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会的重要成果之一。
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