两步湿氧法制备硅微尖阵列工艺研究 - 2009四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会.pdf

10 0
2026-1-11 12:31 | 查看全部 阅读模式

会议论文《两步湿氧法制备硅微尖阵列工艺研究》发表于2009年四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会。该文探讨了利用两步湿氧法在硅基底上制备微尖阵列的工艺流程,旨在提高微结构的均匀性和可控性。研究对氧化温度、时间等参数进行了优化,为微电子器件的制造提供了新思路。

文档为pdf格式,0.63MB,总共3页。

两步湿氧法制备硅微尖阵列工艺研究 - 2009四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会
文件大小:
645.12 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1