会议论文《ECR CVD沉积制备六角氮化硼薄膜》介绍了利用电子回旋共振化学气相沉积（ECR CVD）技术制备六角氮化硼（h-BN）薄膜的方法。该研究探讨了工艺参数对薄膜结构和性能的影响，为制备高质量h-BN薄膜提供了实验依据，具有重要的应用价值。
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