355nm全固态紫外激光切割硅片的研究 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议.pdf

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2026-1-11 08:10 | 查看全部 阅读模式

会议论文《355nm全固态紫外激光切割硅片的研究》探讨了利用355nm全固态紫外激光对硅片进行高效、精确切割的技术。该研究针对传统切割方法的局限性,提出采用紫外激光实现更小的热影响区和更高的切割精度。通过实验分析了激光参数对切割效果的影响,验证了该技术在半导体材料加工中的可行性与优势。

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355nm全固态紫外激光切割硅片的研究 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议
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