会议论文《双槽电沉积[NiFe_Cu_Co_Cu]n多层纳米线巨磁电阻性能的研究》探讨了通过双槽电沉积技术制备的多层纳米线结构在巨磁电阻效应方面的表现。研究旨在优化材料结构,提升其磁电阻性能,为新型磁存储和传感器件提供理论依据和技术支持。
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