会议论文《Si基底磁控溅射制备CrN薄膜表面形貌与生长机制研究》探讨了在硅基底上通过磁控溅射法制备氮化铬（CrN）薄膜的工艺及其表面形貌特征。研究分析了沉积参数对薄膜微观结构和生长机制的影响，揭示了CrN薄膜在不同条件下的生长行为，为优化制备工艺提供了理论依据。
文档为pdf格式，0.75MB，总共8页。
举报
