InXGal-xN_GaN多量子阱结构中的相分凝现象研究 - 第十二届全国固体薄膜会议.pdf

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2026-1-11 00:27 | 查看全部 阅读模式

会议论文《InXGal-xN_GaN多量子阱结构中的相分凝现象研究》探讨了InGaN多量子阱中由于成分波动引起的相分凝现象。该研究通过实验分析,揭示了在生长过程中不同组分的分布不均对材料性能的影响,为优化氮化物半导体器件的性能提供了理论依据和技术支持。

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InXGal-xN_GaN多量子阱结构中的相分凝现象研究 - 第十二届全国固体薄膜会议
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