会议论文《基于EUV光刻掩模简化模型的掩模衍射分析》发表于第十三届全国光学测试学术讨论会。该文针对极紫外光刻（EUV）中的掩模衍射问题，提出一种简化模型，以提高计算效率并保持精度。研究通过数值模拟分析了掩模结构对光场分布的影响，为优化光刻工艺提供了理论支持。
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