利用数字光刻系统制作掩模版的工艺研究 - 2010中国光学学会全息与光信息处理专业委员会年会暨专委会成立25周年纪念会.pdf

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2026-1-10 22:02 | 查看全部阅读模式

会议论文《利用数字光刻系统制作掩模版的工艺研究》介绍了通过数字光刻技术制作掩模版的创新方法。该研究针对传统掩模版制作过程中的不足，提出利用数字光刻系统提高精度与效率。论文详细阐述了工艺流程、关键技术及实验结果，展示了数字光刻在微细加工领域的应用潜力，为相关领域的技术发展提供了参考。

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