碳膜保护改善激活退火SiC表面形貌 - 2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会.pdf

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2026-1-10 17:34 | 查看全部 阅读模式

会议论文《碳膜保护改善激活退火SiC表面形貌》探讨了在激活退火过程中,通过碳膜保护有效改善SiC表面形貌的方法。该研究针对SiC材料在高温退火时易出现的表面粗糙问题,提出采用碳膜作为保护层,以减少表面缺陷和氧化现象。实验结果表明,该方法显著提高了SiC表面的质量,对半导体器件的性能提升具有重要意义。

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碳膜保护改善激活退火SiC表面形貌 - 2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
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