PECVD法非晶硅与氧化非晶硅薄膜钝化硅片研究 - 第九届中国太阳级硅及光伏发电研讨会.pdf

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2026-1-10 10:56 | 查看全部 阅读模式

会议论文《PECVD法非晶硅与氧化非晶硅薄膜钝化硅片研究》探讨了采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备非晶硅及氧化非晶硅薄膜对硅片的钝化效果。研究旨在提高硅片表面质量,降低界面缺陷密度,从而提升太阳能电池效率。该文为光伏材料的优化提供了理论依据和技术支持。

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PECVD法非晶硅与氧化非晶硅薄膜钝化硅片研究 - 第九届中国太阳级硅及光伏发电研讨会
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