会议论文《相移掩膜应用于显示技术光刻细线化的初步研究》发表于2014中国平板显示学术会议，探讨了相移掩膜技术在提高光刻分辨率中的应用。该研究通过实验验证了相移掩膜对细线化工艺的促进作用，为高精度显示器件制造提供了新思路，具有重要的理论和实际意义。
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