会议论文《AlN低温层对品格应力调制》探讨了在薄膜沉积过程中，通过引入AlN低温层对晶格应力进行有效调控的方法。该研究对于改善薄膜质量、降低缺陷密度具有重要意义。论文在第十四届全国固体薄膜学术会议上发表，为相关领域的材料制备提供了理论支持和技术参考。
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