40nm工艺下手工半定制物理设计优化方法 - 第十八届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

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2026-1-10 01:03 | 查看全部 阅读模式

会议论文《40nm工艺下手工半定制物理设计优化方法》针对40nm工艺节点下的半定制芯片设计提出了优化策略。文章分析了手工半定制设计中的关键问题,如布局效率与功耗控制,并提出了一系列物理设计优化方法。通过实际案例验证,该方法有效提升了设计性能与可靠性,为先进工艺下的芯片开发提供了重要参考。

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40nm工艺下手工半定制物理设计优化方法 - 第十八届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
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