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氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响 - 第四届高能束加工技术国际学术会议.pdf

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2025-12-14 21:45 | 查看全部阅读模式

论文《氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响》探讨了氧含量在离子注入和沉积过程中对TaN薄膜力学性能的影响。通过实验分析，研究发现氧含量的变化显著影响薄膜的硬度、弹性模量和内应力。该研究为优化TaN薄膜的制备工艺提供了理论依据，对提高其在微电子和精密制造领域的应用性能具有重要意义。

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氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响 - 第四届高能束加工技术国际学术会议

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学术会议, 薄膜, 离子, 含量, 加工

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