论文《硅基CVD金刚石膜的制备及应用》介绍了化学气相沉积法在硅基材料上制备金刚石薄膜的技术方法及其应用前景。文章详细分析了工艺参数对金刚石膜质量的影响,探讨了其在电子器件、光学元件和精密加工等领域的潜在应用价值,为超硬材料的发展提供了理论支持和技术参考。
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