该论文介绍了用于正性化学增幅型光刻胶的苄叉烷烃酮类双光子敏化剂的研究成果。通过合成新型双光子敏化剂,提高了光刻胶在深紫外光照射下的灵敏度和分辨率。研究旨在拓展光刻技术的应用范围,为高精度微电子制造提供新材料支持。
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