该论文研究了光刻介质的折射率对表面等离激元（SPs）干涉刻写亚波长光栅特征尺寸的影响。通过实验与模拟分析，发现光刻介质的折射率显著影响光栅周期和线宽。高折射率介质可增强SPs的耦合效果，从而实现更精细的光栅结构。研究成果为亚波长光栅的精确制备提供了理论依据和技术支持。
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