T_CASAS 042—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高.pdf

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admin 发表于 2025-9-17 07:24 阅读模式

一、基本信息

文档名称:T_CASAS 042—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高

文档格式:pdf格式

文档大小:0.59MB

总页数:48页


二、简介

《T_CASAS 042—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高》是一项关于碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管的行业标准。该标准旨在规范SiC MOSFET的技术要求、测试方法及应用范围,推动其在电力电子领域的广泛应用。通过制定统一的技术指标和检测流程,提高产品的可靠性与稳定性,促进产业升级和技术创新。本标准适用于各类基于碳化硅材料的MOSFET器件,为设计、生产及检测提供了重要依据。


三、预览

T_CASAS 042—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高
2025-9-6 15:02 上传
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