T_CASAS 044—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高.pdf

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admin 发表于 2025-9-17 07:18 阅读模式

一、基本信息

文档名称:T_CASAS 044—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高

文档格式:pdf格式

文档大小:0.58MB

总页数:48页


二、简介

《T_CASAS 044—2024 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高》是一项关于碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管的技术标准。该标准旨在规范SiC MOSFET的产品性能、测试方法及应用要求,推动其在电力电子领域的广泛应用。标准内容涵盖器件的结构设计、电气特性、热性能及可靠性评估等方面,为行业提供了统一的技术依据。通过实施该标准,有助于提升SiC MOSFET的质量与稳定性,促进相关产业的技术进步与产品升级。


三、预览

T_CASAS 044—2024_碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)高
2025-9-6 15:02 上传
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