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[冶金] GBT 34649-2017 磁控溅射用钌靶

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admin 发表于 2024-9-22 21:47 | 查看全部阅读模式

磁控溅射用钌靶
Magnetronsputteringrutheniumtarget

摘要:本标准规定了磁控溅射用钉靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钉靶)。

标准编号：GB/T34649-2017
标准类型：GB
发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
发布日期：2017年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2018年1月1日
关键词：

GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶.pdf

2024-9-22 21:47 上传

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磁控溅射

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