T_CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法

标准编号：T/CIE132—2022
中文标题：磁控溅射设备薄膜精度测试方法
英文标题：
国际标准分类号：23.160
中国标准分类号：
国民经济分类：I6520集成电路设计
发布日期：2022年08月10日
实施日期：2022年08月10日
起草人：赵巍胜、张博宇、程厚义、SylvainEIMER、彭守仲、许涌、PierreVALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆。
起草单位：北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司。
范围：
主要技术内容：本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。

关键词：中国电子学会,T/CIE,集成电路设计,磁控溅射,薄膜,精度

T_CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法.pdf

2024-9-29 20:21 上传 T_CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法.pdf

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