[YS有色金属] YST 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

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平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶
Flatmagnetingsputteringtarget.Niobiumtargetforopticalcoating

摘要:本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。

标准编号：YS/T718-2009
标准类型：
发布单位：CN-YS
发布日期：2009年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2010年1月1日
关键词：平面磁控溅射靶材,光学薄膜,铌靶,靶材

YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶.pdf

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磁控溅射, 平面, 光学薄膜

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