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新资汇 › 标签 › 磁控溅射

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YST 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
018 发表于 2024-9-22 行业标准
YST 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶
023 发表于 2024-9-22 行业标准
GBT 34649-2017 磁控溅射用钌靶
011 发表于 2024-9-22 国家标准
SJT 31273-1994 EVP-13480型磁控溅射机完好要求和检查评定方法
010 发表于 2024-9-26 归档区
SJT 31067-1994 S枪磁控溅射台完好要求和检查评定方法
012 发表于 2024-9-26 归档区
SJT 10478-1994 磁控溅射设备通用技术条件
010 发表于 2024-9-26 归档区
T_ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材
07 发表于 2024-9-29 团体标准
T_GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
07 发表于 2024-9-29 团体标准
T_CSEA 15-2021 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验
07 发表于 2024-9-29 团体标准
T_CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法
07 发表于 2024-9-29 团体标准
磁控溅射Cu薄膜退火过程中的织构演变行为
011 发表于 2024-10-3 期刊杂志
磁控溅射玫瑰金靶材的刻蚀行为
014 发表于 2024-10-3 期刊杂志
磁控溅射法制备Si1-xGex_B多层薄膜及其热电性能研究
015 发表于 2024-10-7 期刊杂志
磁控溅射制备TCO薄膜及其在SHJ太阳电池的应用
07 发表于 2024-10-13 新能源行业
射频磁控溅射ITO薄膜对T...on太阳电池光电性能的影响
011 发表于 2024-10-13 新能源行业

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